Development of a Silicon Nitride Platform for Next Photonic Integrated Circuits

  • B. Ahammou
  • , N. Dalvand
  • , B. L. Le Drogoff
  • , Y. Ouldhnini
  • , A. Radi
  • , M. Taghavi
  • , K. Ghuman
  • , J. Margot
  • , M. Ménard
  • , M. Chaker

Résultats de recherche: Contribution à un journalArticle de conférenceRevue par des pairs

Résumé

As an ideal platform for photonic integrated circuits, silicon nitride material is explored. In particular, we investigate residual stress and cracking limits in SiNₓ films through experimental and computational approaches, as well as plasma-based SiNₓ nanopatterning.

langue originaleAnglais
Pages (de - à)353
Nombre de pages1
journalInternational Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonics
étatPublié - 2025
Modification externeOui
Evénement15th International Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonics, META 2025 - Malaga, Espagne
Durée: 22 juil. 202525 juil. 2025

Empreinte digitale

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