Résumé
As an ideal platform for photonic integrated circuits, silicon nitride material is explored. In particular, we investigate residual stress and cracking limits in SiNₓ films through experimental and computational approaches, as well as plasma-based SiNₓ nanopatterning.
| langue originale | Anglais |
|---|---|
| Pages (de - à) | 353 |
| Nombre de pages | 1 |
| journal | International Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonics |
| état | Publié - 2025 |
| Modification externe | Oui |
| Evénement | 15th International Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonics, META 2025 - Malaga, Espagne Durée: 22 juil. 2025 → 25 juil. 2025 |
Empreinte digitale
Voici les principaux termes ou expressions associés à « Development of a Silicon Nitride Platform for Next Photonic Integrated Circuits ». Ces libellés thématiques sont générés à partir du titre et du résumé de la publication. Ensemble, ils forment une empreinte digitale unique.Contient cette citation
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